휴니텍

R&D

3D 패턴 공정개발
3D 패턴 적용분야
설비현황
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설비현황

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E-Beam Writer

모델 : MEBES 4500, 4700 & 5000

용도 : 전자빔을 활용한 미세패턴 노광기

주요사항 : 포토리소그래피 패턴 노광기능

Laser Writer

모델 : MW1100

용도 : 포토마스크 및 미세패턴 노광기

주요사항 : 포토리소그래피 패턴 노광기능

CD SEM

모델 : AMS-310

용도 : 미세선폭측정기

주요사항 : 마스크 선폭 측정

Data Preparation Software

모델 : Layout BEAMER

용도 : Pattern Data 변환 및 수정

활동분야 : 레이저라이터, 전자빔 format 전환.

주요사항 : 디자인 파일 변환 및 수정 시뮬레이션 작업.

PR Coater

용도 : 디스플레용 포토레지스트 코팅

주요사항 : 포토레지스트 Coating

Developer

모델 : mark-7

용 도 : 소형 마스크 및 웨이퍼 현상기

주요사항 : 패턴 현상

Etcher & Cleaner

모델 : PMC-1000

용도 : 소형 마스크 애칭 및 세정기

주요사항 : 패턴 식각 및 기판 세정