Electron-Beam 을 이용한 포토리소그래피 장비 및 Direct Writing
장비의 Data Preparation 소프트웨어

Photomask 제작 및 Wafer 에 직접 Exposure 하여 미세패턴을 만드는 E-beam Lithography 장비는 Beam Exposure
시에 높은 Acceleration Voltage 에 의하여 Beam Scattering 및 Process 영향으로 인하여 디자인된 패턴과 다른 결과를
얻게 되므로 이러한 에러 율을 줄이기 위하여 공정 전 데이터 준비과정에서 Layout BEAMER Software 는Exposure 시 Beam 의 분산으로 인한 근접효과 (Proximity Effect) 등에 의한 에너지 불균형 현상을 여러 가지 기술을 이용하여 균등하게 Beam 에너지가 전달될 수 있도록 보정하는 현존하는 가장 쉽고 정교한 Proximity Effect Correction Software 입니다. 쉽게 이해할 수 있으며 매우 빠르고 간편하게 사용이 가능하도록 GUI (Graphic User Interface) system 으로 되어
있습니다.

Beam Exposure (노광) 시 가장 이상적으로 디자인된 패턴에 근접하도록 데이터를 준비할 수 있는 소프트웨어입니다.

• 대부분의 Main Layout Format 및 E-beam 장비의 모든 Format 지원이 가능합니다.
• 특수하게 디자인되거나 복잡하게 곡선 처리된 레이아웃 보완이 가능한 최상의 소프트웨어 입니다.
• Field, Beam Shot, Beam Position, Writing Strategy 및 Writing Order 의 최적화가 가능합니다.
• 과거 모든 레이아웃 프로세스 순서를 저장해 두었다가 한번의 클릭만으로 Open 해서 사용할 수 있는
  라이브러리 기능이 가능합니다.
• 통합된 Layout Editor 입니다.
• 빠른 검사 및 신속하고 포괄적인 검증을 수행하는 강력한 기능의 Viewer 가 탑재되어 있습니다.
• 매우 강력한 근접효과 (Proximity Effect) 와 공정효과 (Process Effect) 보정기술이 뛰어 납니다.
• 흡수 에너지와 저항 곡선에 의한 빔 분산 시뮬레이션 기능이 탑재되어 있습니다.
• 새로운 Layout 의 디자인 및 수정이 가능합니다.
• Exposure 전 Image Simulation 이 가능하여 Exposure 전에 결과 예측이 가능합니다.